一次連續實(shí)驗在這條試生產(chǎn)線(xiàn)上使用鍍鋅鋼帶進(jìn)行的，過(guò)程包括濕法學(xué)清潔和反轉磁控濺射刻蝕，接著(zhù)是利用噴射蒸發(fā)技術(shù)在鍍鋅鋼板上沉積薄的鎂涂層，然后進(jìn)行熱處理。生產(chǎn)線(xiàn)的速率在6-30M/MIN的范圍內。所得到的鍍膜鋼帶具有非常類(lèi)似的外觀(guān)質(zhì)量。在圖10中顯示了未著(zhù)漆樣品的加速腐蝕試驗的結果。和鍍鋅的相關(guān)材料相比的顯著(zhù)改善于的腐蝕抗性與先前在小一型實(shí)驗設備的結果相符合。因此，把參數從實(shí)驗室程序轉移到工業(yè)規模鍍膜設備已經(jīng)成功得到論證了。

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

鍍膜技能在防偽技能中的運用防偽膜品種許多，從運用辦法可分為反射式和透射式；從膜系附著(zhù)辦法能夠分為直接鍍膜式、直接鍍膜式或直接鍍膜剪貼式。鍍膜技能在太陽(yáng)能運用方面的運用當需求有用地運用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要思考選用對太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對熱輻射等所導致的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(cháng)為2-20μm之間的紅外波段。因為太陽(yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因而，為了有用的運用太陽(yáng)熱能，就必須思考選用具有波長(cháng)挑選特性的吸收面。抱負的挑選吸收面是太陽(yáng)輻射光譜的波段（可見(jiàn)光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。